水基清洗剂概述

一、水基清洗剂及水基清洗的概念

1、水基清洗剂：是以去离子水作为主溶剂，与表面活性剂、助溶剂、添加剂等组合而成，借助于含有的表面活性剂、乳化 剂、渗透剂等的润湿、乳化、渗透、分散、增 溶等作用来实现对污染物的清洗的一种清洗媒介，IPC定义中去离子水不小于50%。

2、水基清洗：IPC-CH-65B-CN中定义，水基清洗是以纯水或者有机或者无机皂化剂对组件进行第一道清洗，然后以纯水冲洗掉组件上的污水的一项制程。

二、水基清洗剂产生的背景

1、日益严格的环保管控：《蒙特利尔公约》、ROHS法规、REACH、SS-00259等相关环保法规持 续更新，管控的物质越来越多。

2、安全需求：

a、操作人员健康

b、工作场所的环境安全

c、废液排放。

3、组装结构的复杂化和成本控制

a、原材料选择范围变窄。

b、无铅化技术的导入，工艺难度加大。

c、元件的微型化、元件贴装和结构的高密度化

4、电子清洗行业的发展趋势

不断提升的环保安全要求，组装结构的复杂化，清洗要求的提高，及成本的不断增加等等，这些因素都决定了smt清洗业，无论从清洗设备、工艺技术，还是使用材料的选取都不可避免的遵循一个原则：绿色环保，安全无害，且低成本。

高效、高规格、环保安全的水基清洗剂是最理想的选择，也是未来清洗业的发展方向和必经之路。

三、水基清洗剂机理

1、清洗机理

水基清洗剂是借助于含有的表面活性剂、乳化 剂、渗透剂等的润湿、乳化、渗透、分散、增 溶等作用来实现清洗的。根据清洗方向，可分为中性水基清洗剂和碱性水基清洗剂。

下面简单介绍几种创新的且在水清产品中应用比较多的水基清洗技术。

复合相变清洗技术机理图

 

 

   昊瑞电子在供品C-70水基清洗剂符合客户多种操作要求，适用于擦拭清洗/超声清洗/气动喷淋清洗等操作，此款清洗剂为无卤水基清洗剂，符合RoHs、REACH 指令，不含破坏臭氧层物质。具有使用安全，对人体危害小等特点。

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